真空镀加工的等离子扩渗镀膜设备及技术;

　　离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将n、c等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。 等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮，氮碳共渗) 等离子体化学气相沉积(pcvd)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。

真空电镀生产的滚镀过程中需注意的事项?下面就一起去看看：

　　电流密度差异大

　　滚镀的阴极电流密度虽然较大，然而由于电流密度差异悬殊，多数电流消耗在高电流密度的工件上，平均电流密度却很小，结果是阴极电流效率低，如操作中稍有疏忽，镀层厚度就难以---。

　　滚镀过程中同时存在化学溶解

　　当工件翻滚时会使电流时断时续，要求加厚镀层需要延长滚镀时间，然而在局部处的镀层仍难以增厚。